Первый российский литограф уже создан и проходит испытания

В России создан первый отечественный литограф, который сможет печатать чипы с разрешением до 350 нанометров. В настоящее время он проходит испытания в Зеленограде.

Это было сделано заместителем министра промышленности и торговли России в кулуарах конференции "Промышленная цифровая индустрия России" (CIPR), проходившей в Нижнем Новгороде с 21 по 24 октября

. Оборудование такого уровня сложности собирают всего несколько крупных компаний.. Среди них ASML из Нидерландов, Sapop и Nikon из Японии. 350-нанометровый чип по-прежнему широко используется в различных отраслях промышленности, включая автомобилестроение, энергетику и системы связи. Чип с разрешением до 130 нанометров был впервые выпущен в мире в 2001 году. Следующим этапом является разработка 90-нанометровой литографии. Ранее прогнозировалось, что первый прототип 130-нанометрового литографа будет создан в России к 2026 году. А к 2028 году Россия должна будет начать производство собственного 28-нанометрового чипа.